技術資源
靜電卡盤高壓電源多電極協同供電的技術演進與應用價值
在半導體制造工藝中，靜電卡盤（E-Chuck）的吸附穩定性直接影響晶圓加工的精度與良率。隨著晶圓尺寸增大（如12英寸及以上）及制程節點進入
亞原子尺度的光：透射電鏡高壓電源的精密控制革命
在透射電子顯微鏡（TEM）技術領域，亞原子級成像的實現依賴于高壓電源的極致精度。作為電鏡的心臟，高壓電源為電子槍提供能量，直接影響電
高壓電源在蝕刻設備中的工藝參數自整定技術發展
在半導體制造中，等離子體刻蝕的精度直接決定芯片微觀結構的成形質量。高壓電源作為等離子體的能量來源，其工藝參數的實時自整定能力已成為
準分子激光高壓電源光學同步觸發技術的應用與突破
準分子激光器（如ArF、KrF等）作為深紫外波段的高功率脈沖光源，在半導體光刻、微納加工、醫療等領域具有不可替代的地位。其性能核心依賴于
光刻機高壓電源的電磁脈沖防護：技術挑戰與創新方案
在高端光刻機中，高壓電源（通常需穩定輸出數千至數萬伏直流電壓）的穩定性直接決定曝光精度。然而，電磁脈沖（EMP）的瞬態干擾（上升時間
高壓電源在曝光機中的效率提升研究
曝光機是半導體制造和精密光刻的核心設備，其成像質量直接依賴于高壓電源的穩定性和效率。傳統高壓電源存在能耗高、熱損耗大、體積笨重等問
電子束高壓電源紋波抑制技術
在電子束焊接、精密熔煉及真空鍍膜等工業領域，高壓電源的紋波系數直接決定了工藝質量。紋波（輸出電壓中的交流脈動成分）會引發電子束軌跡
高壓電源小型化在曝光機中的技術路徑與應用展望
曝光機作為半導體、平板顯示制造的核心設備，其精度直接決定芯片制程與顯示面板的分辨率。高壓電源作為曝光機的關鍵子系統，負責驅動光源和
電子束高壓電源過流保護設計的關鍵技術與應用
電子束高壓電源廣泛應用于工業加工、醫療設備及科研裝置中，其核心需求是在高電壓（通常數千至數萬伏）、大電流脈沖場景下保持穩定運行。然