技術資源
光刻機高壓電源多物理場協同仿真技術研究
在半導體制造領域，光刻機的精度直接決定芯片的制程水平。高壓電源作為光刻機的核心子系統，為電子束偏轉系統、離子光學單元及精密伺服機構
離子注入高壓電源能量利用率優化路徑探析
離子注入技術作為半導體制造、材料改性的核心工藝，其能量利用率直接影響制造成本與設備性能。高壓電源作為離子注入系統的心臟，為離子加速
高壓電源在蝕刻設備中的工藝氣體適配技術
在半導體干法刻蝕工藝中，工藝氣體的化學特性與高壓電源的能量調控能力共同決定了刻蝕精度與效率。工藝氣體通過電離生成活性基團（如自由基
準分子激光高壓電源放電穩定性建模研究
準分子激光器作為半導體光刻、醫療等領域的關鍵光源，其輸出穩定性直接取決于高壓電源放電過程的精確控制。放電穩定性建模涉及氣體動力學、
光刻機高壓電源的自適應諧振頻率控制技術
在高端光刻機中，高壓電源的穩定性直接決定了曝光精度和系統可靠性。隨著光刻技術向更小線寬（如亞微米級）發展，高壓電源需在數千伏級電壓
離子注入高壓電源多脈沖序列控制的技術突破與應用展望
離子注入技術是半導體制造、材料表面改性和精密器件加工的核心工藝之一。高壓電源作為離子注入設備的心臟，其性能直接影響注入離子的能量精
靜電卡盤高壓電源表面電荷動態平衡機制與技術挑戰
一、靜電卡盤的工作原理與電荷動態平衡基礎靜電卡盤（ESC）是半導體制造中的核心部件，通過高壓電源在電極層加載直流或射頻電壓，使絕緣介
準分子激光高壓電源電極腐蝕防護：材料挑戰與技術創新
準分子激光高壓電源是深紫外光刻、精密材料加工等高端裝備的核心部件，其電極在高壓放電過程中面臨復雜的腐蝕問題。腐蝕不僅降低電極導電性
光刻機高壓電源的粒子干擾屏蔽技術：挑戰與創新
在半導體制造中，光刻機是實現納米級電路圖案的核心設備，其高壓電源的穩定性直接決定曝光精度與良率。然而，高能粒子（如宇宙射線、放射性