技術資源
靜電卡盤高壓電源智能動態均壓的應用與技術價值
在半導體制造向3nm及以下先進工藝迭代的過程中，靜電卡盤（ESC）作為晶圓吸附與定位的核心組件，其性能直接決定光刻、刻蝕等關鍵工序的精度
電鏡高壓電源的飛秒級時間分辨率：技術突破與應用拓展
在電子顯微鏡（以下簡稱電鏡）的技術體系中，高壓電源是控制電子束加速、聚焦與穩定性的核心單元，其性能直接決定電鏡對微觀世界的觀測精度
電子束高壓電源壽命評估模型的構建與應用
電子束技術在材料表面改性、食品低溫殺菌、工業無損探傷等領域的規?；瘧?，推動了對核心動力部件——電子束高壓電源的可靠性要求。該電源
曝光機高壓電源數字化驅動方案的技術應用與效能提升
在半導體制造的光刻環節，曝光機的成像精度直接決定芯片制程水平，而高壓電源作為曝光機光學系統與能量供給的核心部件，其輸出穩定性、精度
電子束高壓電源抗沖擊設計要點
電子束技術在材料表面改性、食品低溫殺菌、半導體光刻等領域的應用日益廣泛，其核心動力源——電子束高壓電源，需在高電壓（通常千伏至兆伏
曝光機高壓電源負載均衡技術的應用與工藝價值
在半導體光刻制程中，曝光機作為核心設備，其成像精度直接決定芯片線寬與性能，而高壓電源作為曝光機光源系統（如深紫外光源、極紫外光源）
電子束高壓電源智能監控系統的應用與技術價值
在電子束技術快速滲透材料改性、醫療滅菌、精密焊接等領域的背景下，作為核心動力源的高壓電源，其運行穩定性與可控性直接決定工藝效果與設
光刻機高壓電源抗輻射屏蔽結構設計與應用
在半導體納米級制程制造中，光刻機作為核心設備，其運行精度直接決定芯片良率。高壓電源作為光刻機的關鍵動力單元，負責為激光系統、靜電吸
離子注入高壓電源脈沖序列優化的技術路徑與應用價值
在半導體制造的摻雜工藝中，離子注入技術通過將特定離子精確注入晶圓表層，構建器件的電學特性區域，是決定芯片性能與良率的核心環節。高壓