超高穩定度、超低紋波、過壓、過流、短路、拉弧和過溫等強大可靠保護作用
離子注入是一種將帶電離子（如硼、磷等）通過高壓電源加速成高能離子束，并精準轟擊材料（如硅片、金屬或陶瓷）表面的技術，用于改變材料表層的物理化學性質。在半導體制造中，它通過向硅晶圓注入特定雜質原子，實現晶體管漏區、阱區等關鍵結構的可控摻雜；在材料領域，可提升工具硬度或光學器件性能。該技術核心優勢在于摻雜深度、濃度及區域的高度精確可控，是微電子芯片和高端材料改性的關鍵工藝。
